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Kyma授权GTAT运用等离子体汽相淀积技能

来源:http://ig88new.com 责任编辑:ag88环亚国际 2018-09-03 22:39

  Kyma授权GTAT运用等离子体汽相淀积技能

  GT Advanced Technologies (纳斯达克代码:GTAT)3月1日宣告现已向Kyma Technologies, Inc.收买其等离子体汽相淀积(PVD)技能及专门知识的独家运用权。Kyma所开发的等离子体汽相淀积柱状纳米技能(PVDNC(TM))能够在氮化镓堆积前,在晶圆上堆积一层高质量的成长型初始层氮化铝。GT 方案将等离子体汽相淀积东西商业化,以合作其正在研制的氢化物气相外延(HVPE)体系,这个组合将能够让LED出产商在图画化或平面晶圆上,用更低的本钱出产更高产值的氮化镓模板。GT现已有一个能够用于大量出产的原型东西,结合Kyma的等离子体汽相淀积柱状纳米技能,预期到2015年上半年可供给量产东西。

  GT的总裁兼首席执行官Tom Gutierrez 表明:"Kyma立异的"柱状纳米"PVDNC技能为咱们不断扩张的LED出产基地带来了重要的弥补。咱们的方针是供给一系列的解决方案,以提高LED出产的质量及下降本钱。将GT的PVD AlN东西与咱们正在研制的HVPE体系相结合,估计可让LED出产商以比现行出产技能更低的本钱出产出开盒即用晶圆。"

  Kyma的总裁兼首席执行官Keith Evans表明:"咱们非常高兴GT决议将咱们的等离子体汽相淀积柱状纳米技能商业化。经过多年立异及出产AIN模板,咱们坚信柱状纳米AlN 薄膜将为LED职业带来实实在在的优点。"

  今日,将氮化镓堆积在开盒即用的晶圆时,需求运用较为贵重并且进程缓慢的MOCVD东西。经过结合PVD与HVPE这两个流程,将能够出产低本钱的氮化镓模板,厂商将能够使用现有的LED出产线扩产;别的,因为他们需求的MOCVD 东西更少,此举也能够下降其本钱开支。

  

  

   等离子体汽相淀积技能GTAT